f-100T-14-510-550-v2

Anwendungsgebiete

Glas/Kristall
Strukturieren
Kupfer
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Silizium
Strukturieren
Gedruckte Leiterplatten
Strukturieren
Kunststoffe
Strukturieren

Technische Daten

Allgemein
Wellenlänge510 - 550 nm
Maximaler Eingangsstrahldurchmesser14 mm
Anti-Reflexions-BeschichtungStandard
Optik
Nominelle Brennweite100 mm
Maximales Arbeitsfeld50 mm x 50 mm
Arbeitsabstand133,000 mm
Auflagemaß207,000 mm
Minimaler Fokusdurchmesser3,62 μm
BefestigungsgewindeM85x1
Linsendurchmesser120 mm
Telezentriefehler2,1 °
LinsenmaterialVollquarz
Kühlung / Temp.
KühlmethodeLuft

510 - 550 nm | Vollquarz | Telezentrisch

ModellbezeichnungWellenlängeNominelle BrennweiteArbeitsabstandMaximales ArbeitsfeldMaximaler EingangsstrahldurchmesserMinimaler FokusdurchmesserTelezentriefehlerLinsenmaterialBefestigungsgewindeLinsendurchmesserKühlmethodeAnfrageDetail
f-100T-14-510-550-v2510 - 550 nm100 mm133,000 mm50 mm x 50 mm14 mm3,62 μm2,1 °VollquarzM85x1120 mmLuft
f-120T-10-510-550510 - 550 nm120 mm166,741 mm65 mm x 65 mm10 mm10,44 μm20 °VollquarzM85x110 mmLuft
f-167T-14-510-550510 - 550 nm167 mm233,233 mm86 mm x 86 mm14 mm11,61 μm3 °VollquarzM85x1140 mmLuft
f-250T-14-510-550510 - 550 nm250 mm361,810 mm150 mm x 150 mm14 mm8,82 μm1,8 °VollquarzM85x1250 mmLuft